表面刻蝕機(jī)

時(shí)間：2016-01-04作者：華儀行（北京）科技有限公司瀏覽：46

	一．等離子基本常識(shí)：


	     1.等離子體又叫做電漿，是電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的*四態(tài)。


	    2.低溫等離子體的電離率較低，電子溫度遠(yuǎn)**離子溫度，離子溫度甚至可與室溫相當(dāng)。所以低溫等離子體是非熱平衡等離子體，離子體中存在著大量的、種類繁多的活性粒子，比化學(xué)反映所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性較強(qiáng)，較易于和所接觸的材料表面發(fā)生反映，因此被用來(lái)對(duì)材料表面進(jìn)行改性處理。


	



	    3.等離子體表面處理具有成本低、無(wú)廢棄物、無(wú)污染等顯著的優(yōu)點(diǎn)，等離子設(shè)備廣泛運(yùn)用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領(lǐng)域。


	4.等離子設(shè)備主要適用于各種材料的表面改性處理：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。


	 


	二．大氣壓等離子清洗機(jī)：


	    1.采用空氣或者氮?dú)庾鳛榘l(fā)生氣體。特點(diǎn)是氣體的需求量非常高，使用氮?dú)鈺r(shí)一般需要配備專門的大功率氮?dú)獍l(fā)生器，工業(yè)上常用RF射頻作為激發(fā)能源，頻率在40KHZ左右。等離子工作形態(tài)以炬式較為常見，條狀放電模式使得表面處理后均勻性不高。設(shè)備工作過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生**標(biāo)的臭氧與氮氧化物等對(duì)人體有害的氣體，必須要配套廢氣排放系統(tǒng)一同工作。因?yàn)樯鲜鎏匦裕入x子主要適用于對(duì)處理效果要求不高，并且后續(xù)運(yùn)行成本低的行業(yè)（可使用空氣），比如紡織業(yè)等。


	   2.等離子技術(shù)通常應(yīng)用于等離子切割機(jī)，主要是金屬的切割。均勻度高，大氣壓等離子直接作用于材料表面，可以搭配的工作氣體種類較多，如氬、氧、氮、氫、水蒸氣、空氣、混合氣體等。主要面向待處理產(chǎn)品有不能被處理的金屬區(qū)域，因氧氣的強(qiáng)氧化作用，替換為此方案中的氮?dú)夂?，該?wèn)題可以加以控制。等離子切割是利用較細(xì)、高溫、高速的等離子電弧的熱量來(lái)熔化進(jìn)而切割金屬器件，特點(diǎn)是切割快速，熱影響區(qū)小，切割面平滑。只采用氬氣的情況，只采用氬氣也可以實(shí)現(xiàn)表面改性，但是效果相對(duì)較低。此種情況較特殊，是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限度的同時(shí)均勻的表面改性時(shí)采用的方案。


	等離子清洗機(jī)｜等離子表面處理設(shè)備


	 


	三．等離子清洗機(jī)優(yōu)點(diǎn)：


	    1.面積寬大。大氣壓等離子較大可以處理5.2L的材料，可以滿足現(xiàn)有多數(shù)工業(yè)材料的表面處理需求。 


	    2.成本低廉。大氣壓等離子設(shè)備功耗低，運(yùn)行成本以氣體為主。


	    3.*有害氣體吸出系統(tǒng)，長(zhǎng)時(shí)間使用并不會(huì)對(duì)操作人員造成身體損害。


	4.安全易用。不會(huì)對(duì)材料表面造成損傷。


	四．等離子清洗機(jī)技術(shù)性能：


	 ▲ 艙體尺寸:275X110（直徑）mm;


	    ▲  艙體容積: 2.6L;


	    ▲  射頻頻率: 40KHz;


	    ▲ 射頻功率:10-200W無(wú)極可調(diào);


	    ▲電 源:220V 50/60HZ


	    ▲  電 流:1.2A;


	   ▲    時(shí)間設(shè)定:0-99分59秒;


	   ▲   氣體穩(wěn)定時(shí)間: 1分鐘;


	   ▲ 真空度:100pa以內(nèi);


	   ▲  等離子激發(fā)方式:電容式


	   ▲  外形尺寸:L*W*H500*460*240MM


	   ▲ 整機(jī)重量:15Kg


	 


	 


	 


	 


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