求教鎂合金陽表面處理辦法

時間：2018-03-20

金屬表面處理工藝：
河南邦信陰保護公司以鎂合金犧牲陽為例，簡述一下鎂合金表面處理應該怎樣做。常見的處理辦法有：
化學轉化
鎂合金與轉化液發(fā)生化學反應生成一層保護性鈍化膜的處理技術稱為化學轉化法?；瘜W轉化是一種比較成熟的表面處理工藝，國內航天航空在20世紀60 年代就已應用?；瘜W轉化方法的主要特點是設備簡單、成本低，適應于構復雜件及大件的處理，但是化學轉化膜層?。?.5～3μm）且為多孔結構，對鎂基體保護有限，現多用于零件制備過程中的工序間防護和涂裝前處理。由于部分轉化液有毒會對環(huán)境造成污染，**上已經開始禁止使用相應的化學轉化工藝，因此，其未來的發(fā)展方向是綠色環(huán)保的化學轉化技術。
陽氧化
利用電解作用在金屬表面成膜的過程稱為陽氧化，陽氧化膜為多孔雙層結構，較厚的多孔層為外層，較薄的致密層為內層，膜層的成分由合金元素的氧化物和沉積的氧化物共同組成。氧化膜的厚度為10～40μm左右。陽氧化膜空隙大、無規(guī)則、分布不均勻，如果不進行封閉，耐蝕性非常差，因此，需進行后續(xù)的封孔處理，使其既美觀又耐蝕。
微弧氧化
微弧氧化又叫等離子體微弧氧化，是在陽氧化的基礎上發(fā)展起來的，在金屬表面原位生長陶瓷層的一種表面處理技術。鎂合金微弧氧化形成的膜層主要分為過渡層、致密層、疏松層。  當微弧氧化基體材料選定時，微弧氧化膜層的厚度與形貌主要受到電解液體系、電源類型、工作模式、電參數等的影響。與化學轉化、陽氧化技術相比，鎂合金微弧氧化制備的膜層厚度可控，耐蝕性和耐磨性也較優(yōu)異，該方法已被證明是提高鎂合金的耐蝕和耐磨性能的有效途徑，但微弧氧化膜層表面的微孔隙是限制耐蝕性提高的主要因素，需采用有效的封孔技術才能大幅度提高鎂合金的耐蝕性能。
離子注入
離子注入是在高真空狀態(tài)下，在十至數百千伏電壓的靜電場作用下，經加速的高能離子以高速沖擊鎂材表面，離子被嵌入并在基體的間隙位置被中和形成固溶體，從而改變基體的表面性能（硬度、抗疲勞性、耐蝕性）。離子注入工藝過程中為高溫環(huán)境，會影響基體的力學性能，注入過程要氣體保護，成本高。
激光表面改性
激光表面改性技術是通過激光等高能束流使基體表面預先涂覆的膜層和部分基體熔化，或者在表面熔化的同時注入某些粉末，膜層或表面在熔池中液態(tài)混合后發(fā)生快速凝固，從而在表面形成耐蝕性較好的合金薄層。
**涂裝  
該方法是通過在鎂合金表面噴涂**涂層將基體與腐蝕介質隔絕已達到耐腐蝕的目的。噴涂**涂層可以直接用于鎂合金表面防護，但更多是與其他表面處理方法聯合使用，作為較外層的防護層來提高工件的耐蝕性。常用的**涂層材料為：環(huán)氧樹脂、乙烯樹脂、聚氨酯等。
金屬及化合物涂層
金屬涂層主要是采用電鍍和化學鍍的方法在鎂合金基體表面涂覆一層金屬涂層。

詞條
詞條說明
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管道陰保護工程防腐施工鎂合金犧牲陽安裝
鎂合金犧牲陽執(zhí)行尺度：GB/T17731-2004 產品特點：河南邦信防腐陰保護工程公司出產的鎂合金采用優(yōu)質的原材料來出產，陽電位負，單位質量發(fā)生電量大，是理想的犧牲陽材料。應用規(guī)范：在泥土中使用時，應埋設在低洼濕潤的地方。 (對于電阻率大于100Ω·m，建議采用帶狀鎂陽)使用留意事項：應避免與鋼結構發(fā)生撞擊。鎂合金犧牲陽按標準 GB/T17731-2004《鎂合金犧牲陽》出產，用于管道的