真空電鍍的特點(diǎn)

    1. 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀
    2. 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴。
    3. 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低。
    4. 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。
    5. 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷。

    6. 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等


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    詞條說明

  • 真空電鍍的特點(diǎn)

    1. 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀2. 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴。3. 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低。4. 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。5. 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷。6. 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC

  • 真空電鍍的前處置在電鍍技術(shù)中十分關(guān)鍵

    ? ? ? ?真空電鍍的前處置在電鍍出產(chǎn)線上是電鍍技術(shù)中十分關(guān)鍵的一步,基體資料外表處置的好壞直接影響鍍層的質(zhì)量,因而應(yīng)對電鍍前處置恰當(dāng)?shù)淖⒅亍? ? ? ?鍍件的鍍前處置是決議電鍍質(zhì)量的較重要要素之一。在實(shí)習(xí)出產(chǎn)中,電鍍故障率80%以上出在前處置工序,所以電鍍前處置作用的好壞就顯得尤為重要,下面詳細(xì)介紹基體的外表狀況

  • 水電鍍的特點(diǎn)

    ? ? ? ?水電鍍相對于真空電鍍來說較為簡單,從而被廣泛應(yīng)用到標(biāo)牌的制作中,但水電鍍也有個(gè)弱點(diǎn),電鍍的材料比較單一,只能鍍ABS料和ABS+PC料(此料鍍的效果也不是很理想)。而ABS料耐溫性能不佳只有80℃,這使得它的應(yīng)用范圍被限制了。而真空電鍍可達(dá)200℃左右,這對使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料,這些部件均要求耐130℃

  • 真空電鍍的優(yōu)缺點(diǎn)

    1、簡單來說,真空電鍍不過UV油,其附著力很差,無法過百格TEST2、真空電鍍可以解決七彩色的問題.如閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色3、真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求.4、沉積材料廣泛可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材較是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系5、節(jié)約金屬材料由于真空涂層的附著力、致密度、

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