美國(guó)Atseva光頻梳狀合成器--EFO-COMB

    天津瑞利光電科技有限公司優(yōu)勢(shì)經(jīng)銷美國(guó)Atseva光頻梳狀合成器EFO-COMB

    產(chǎn)品型號(hào):EFO-COMB

    關(guān)鍵字:Atseva光頻梳狀合成器EFO-COMB

    關(guān)鍵字描述:光學(xué)合成器單元是一個(gè)交鑰匙設(shè)備,包括摻鐿鎖模光纖激光器,具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率frep和載波包絡(luò)偏移fceo。

    產(chǎn)品介紹:

    全光纖PM方案可實(shí)現(xiàn)24/7操作

    520-2200 nm全光譜覆蓋

    完整的單源頻率梳系統(tǒng)

    節(jié)拍檢測(cè)單元(可選)

    靈活的自定義(例如DFG)

    EFO-COMB是一款高精度光學(xué)頻率合成器,設(shè)計(jì)用于多種研究和工業(yè)應(yīng)用,例如原子激光冷卻,高精度長(zhǎng)度測(cè)量,光學(xué)時(shí)鐘,激光雷達(dá),天文學(xué),**穩(wěn)定微波發(fā)生器,頻率參考信號(hào)的光學(xué)傳輸。光學(xué)合成器單元是一個(gè)交鑰匙設(shè)備,包括摻鐿鎖模光纖激光器,具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率frep和載波包絡(luò)偏移fceo。梳狀發(fā)生器單元可以設(shè)計(jì)為參考RF參考源(在1 s時(shí)提供5 * 10 ^ -13的傳輸穩(wěn)定性),以及參考光學(xué)系統(tǒng)(在1s時(shí)低至~1 * 10 ^ -16)1秒)。該系統(tǒng)具有一個(gè)內(nèi)置的**連續(xù)譜發(fā)生器和一個(gè)f-2f干涉儀,用于穩(wěn)定光纖。標(biāo)準(zhǔn)單元具有4個(gè)1560 nm左右的低功率光纖耦合輸出,可用于各種應(yīng)用和各種可選功能的連接。全PM光纖布局確保了交鑰匙的不間斷運(yùn)行。一個(gè)單獨(dú)的控制機(jī)架包含PSU-CU單元,鎖相環(huán)(PLL)單元,數(shù)據(jù)收集和指示系統(tǒng)。

    參數(shù):

    梳齒間距(Frep):100 MHz

    連接到射頻參考的穩(wěn)定性:<5?10 ^ -13在1 s或與參考相同

    與光學(xué)參考連接的穩(wěn)定性:<1?10 ^ -16 at 1 s或與參考相同

    梳齒間距的調(diào)諧范圍:> 0.7 MHz

    偏移頻率Fceo的調(diào)諧范圍:> 100 MHz

    光學(xué)輸出:2個(gè)或4個(gè)光纖耦合輸出端口或準(zhǔn)直的自由空間輸出,分別在1560 nm,520-1000 nm,1000-2200 nm,其他波長(zhǎng)要求(可選)

    中心波長(zhǎng)(固定):1560±10 nm

    全光譜覆蓋(帶有其他選項(xiàng)):520-1000 nm,1000-2200 nm,其他波長(zhǎng)可根據(jù)要求提供

    每個(gè)輸出的輸出功率:> 5 mW;

    > 250 mW @ 1560 nm(可選);

    > 200 mW @ 1000-2200 nm(可選);

    > 80 mW @ 520-1000 nm(可選)

    光學(xué)單元尺寸(長(zhǎng)x寬x高):356 x 492 x 110 mm

    控制機(jī)架尺寸(寬x長(zhǎng)):640 x 553 mm(機(jī)架高度取決于確切的配置)

     

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