廢液收集貯存相關(guān)注意事項(xiàng)
1 )廢液濃度超過(guò)一定濃度時(shí),必須處理。 但是,在處理設(shè)施齊全的情況下,往往會(huì)放寬廢液的處理濃度限制。
2 )廢液宜分別處理,儲(chǔ)存后統(tǒng)一處理時(shí),收集處理方法不同但可統(tǒng)一處理的各種化合物進(jìn)行處理。
3 )處理含絡(luò)合離子、螯合物等廢液時(shí),如果存在干擾成分,應(yīng)另行收集含這些成分的廢液。
4 )下列廢液不得相互混合: 過(guò)氧化物和**物; 氰化物、硫化物、次氯酸鹽和酸; 鹽酸、氫氟酸等揮發(fā)性酸和不揮發(fā)性酸; 濃硫酸、磺酸、羥基酸、多磷酸等酸類(lèi)和其他酸; 銨鹽、揮發(fā)性胺和堿。
5 ) .選擇無(wú)破損、不被廢液腐蝕的容器進(jìn)行收集。 將收集到的廢液成分和含量貼上明顯的標(biāo)簽,放置在安全的地方保存。 特別是毒性大的廢液,請(qǐng)?zhí)貏e注意。
6 )硫醇、胺等有氣味的廢液或產(chǎn)生氰、磷化氫等有毒氣體的廢液、易燃性較大的二硫化碳、乙醚等廢液,必須妥善處理,及時(shí)處理,以免泄漏。
7 )含有過(guò)氧化物、硝化甘油等爆炸性物質(zhì)的廢液,必須謹(jǐn)慎操作,盡快處理。
8 )含放射性物質(zhì)的廢棄物,應(yīng)當(dāng)另行收集,按照有關(guān)規(guī)定,嚴(yán)防泄漏,慎重處理。 **廢液,但也含有無(wú)機(jī)廢液中記載的物質(zhì),無(wú)機(jī)物質(zhì)濃度超過(guò)無(wú)機(jī)廢液中記載的濃度時(shí),應(yīng)另行收集該廢液。 **廢液濃度是指含水廢液的濃度。
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詞條
詞條說(shuō)明
在現(xiàn)代高科技的浪潮中,芯片作為信息技術(shù)的部件,其制造過(guò)程對(duì)環(huán)境的潔凈度和處理技術(shù)的要求高。而在芯片制造的眾多環(huán)節(jié)中,切割是一個(gè)至關(guān)重要的步驟。這一步驟不僅要求高的精度,還對(duì)切割過(guò)程中使用的介質(zhì),尤其是水,有著嚴(yán)苛的標(biāo)準(zhǔn)。因此,芯片切割水處理設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,成為了確保芯片質(zhì)量的關(guān)鍵一環(huán)。芯片切割水處理設(shè)備的主要功能是通過(guò)一系列物理、化學(xué)及生物處理手段,將普通自來(lái)水或工業(yè)用水轉(zhuǎn)化為符合芯片切割工藝要求的
【PCR實(shí)驗(yàn)室污水處理設(shè)備】 污水處理設(shè)備可以用在哪些行業(yè)
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實(shí)驗(yàn)污水具有量少、間斷性強(qiáng)、高危害、成分復(fù)雜多變等特性。根據(jù)污水中所含主要污染物性質(zhì),可以分為**和無(wú)機(jī)廢水兩大類(lèi)。無(wú)機(jī)廢水主要含有重金屬、重金屬絡(luò)合物、酸堿、、硫化物、鹵素離子以及其他無(wú)機(jī)離子等。**廢水含有常用的**溶劑、**酸、醚類(lèi)、、**磷化合物、酚類(lèi)、石油類(lèi)、油脂類(lèi)物質(zhì)。通常情況下由于實(shí)驗(yàn)過(guò)程中產(chǎn)生的實(shí)驗(yàn)污水和廢雜通常有嚴(yán)格的收集保存方式,因此進(jìn)入實(shí)驗(yàn)污水系統(tǒng)中的污染物濃度在經(jīng)過(guò)儲(chǔ)存調(diào)蓄
陶瓷膜成套設(shè)備價(jià)格陶瓷膜,又稱(chēng)無(wú)機(jī)陶瓷膜,以無(wú)機(jī)陶瓷材料經(jīng)特殊工藝制備而形成的非對(duì)稱(chēng)膜。陶瓷膜分離工藝是一種“錯(cuò)流過(guò)濾”形式的流體分離過(guò)程:原料液在膜管內(nèi)高速流動(dòng),在壓力驅(qū)動(dòng)下含小分子組分的澄清滲透液沿與之垂直方向向外透過(guò)膜,含大分子組分的混濁濃縮液被膜截留,從而使流體達(dá)到分離、濃縮、純化的目的。設(shè)備優(yōu)勢(shì):滲透通量高,使用壽命長(zhǎng),孔徑分布窄,分離精度較優(yōu)支撐體強(qiáng)度高且偏差小,耐酸、耐堿耐腐蝕性能佳
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