烈日炎炎,熱情滿心間!后疫情時代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶提供設備安裝調(diào)試服務。首站福州大學,那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機!
性能配置:
離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。
配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍,650mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對Au;刻蝕均勻度:對4”片,片內(nèi)均勻性**±3%,重復性**±3%。
樣品臺可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控;可任意角度傾斜,支持斜齒刻蝕;帶水冷功能,刻蝕后易去除光刻膠。
極限真空12小時可達6x10-7Torr,15分鐘可達10-6Torr量級的真空;采用雙真空計,長期可靠,使用穩(wěn)定。
14”不銹鋼立方腔體,配套一臺主控計算機,20”觸摸屏監(jiān)控,配合Labview軟件,實現(xiàn)計算機全自動工藝控制,并可在電源中斷情況下安全恢復;完全的安全聯(lián)鎖;支持百級**凈間使用。
驗收培訓:
安裝調(diào)試視頻:
詞條
詞條說明
烈日炎炎,熱情滿心間!后疫情時代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶提供設備安裝調(diào)試服務。首站福州大學,那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機!性能配置:離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍,650mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對Au;刻蝕均勻度:對4”片,片內(nèi)均勻性**±
Nano-Master的遠程微波等離子體化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)應用范圍廣泛,包含:基片或粉體的等離子誘導表面改性等離子清洗粉體或顆粒表面等離子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的選擇性生長單晶或多晶金剛石生長???微波模塊:NANO-MASTER高質(zhì)量**命遠程微波源,頻率為2.45GH,微波**功率可以自主調(diào)節(jié),微波反射功率可通過調(diào)節(jié)降
一、磁控濺射的工作原理:磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。磁控濺射的工作原理是:在高真空的條件下充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使氬氣發(fā)生電離(在高壓作用下Ar
近日,NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業(yè)有限公司,順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備!NANO-MASTER的PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應用于等離子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據(jù)不同應用,可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規(guī)格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選,較高可定制到1
公司名: 那諾-馬斯特中國有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
電 話:
手 機: 17317363700
微 信: 17317363700
地 址: 上海徐匯凌云徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號
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原裝進口清洗機 SWC-3000兆聲晶圓掩模版清洗機 那諾-馬斯特
離子源清洗 NIE-3500A全自動離子束清洗系統(tǒng) 那諾-馬斯特
刻蝕設備 NRE-3500A全自動反應離子刻蝕機 那諾-馬斯特
PECVD設備 NPE-4000ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特
ald原子層沉積 NLD-3000原子層沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特
蒸發(fā)鍍膜機 NTE-4000M熱蒸發(fā)系統(tǒng) 那諾-馬斯特
晶圓清洗設備 LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng) 那諾-馬斯特
進口全自動清洗機 SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機 那諾-馬斯特
公司名: 那諾-馬斯特中國有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
手 機: 17317363700
電 話:
地 址: 上海徐匯凌云徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號
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