福州大學離子束刻蝕機順利驗收


    烈日炎炎,熱情滿心間!后疫情時代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶提供設備安裝調(diào)試服務。首站福州大學,那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機!




    性能配置:

    離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。

    配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍,650mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對Au;刻蝕均勻度:對4”片,片內(nèi)均勻性**±3%,重復性**±3%。

    樣品臺可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控;可任意角度傾斜,支持斜齒刻蝕;帶水冷功能,刻蝕后易去除光刻膠。

    極限真空12小時可達6x10-7Torr,15分鐘可達10-6Torr量級的真空;采用雙真空計,長期可靠,使用穩(wěn)定。

    14”不銹鋼立方腔體,配套一臺主控計算機,20”觸摸屏監(jiān)控,配合Labview軟件,實現(xiàn)計算機全自動工藝控制,并可在電源中斷情況下安全恢復;完全的安全聯(lián)鎖;支持百級**凈間使用。


    驗收培訓:


    安裝調(diào)試視頻:


    那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統(tǒng),刻蝕系統(tǒng),清洗去膠系統(tǒng)等

  • 詞條

    詞條說明

  • 福州大學離子束刻蝕機順利驗收

    烈日炎炎,熱情滿心間!后疫情時代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶提供設備安裝調(diào)試服務。首站福州大學,那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機!性能配置:離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍,650mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對Au;刻蝕均勻度:對4”片,片內(nèi)均勻性**±

  • *遠程微波PECVD系統(tǒng)

    Nano-Master的遠程微波等離子體化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)應用范圍廣泛,包含:基片或粉體的等離子誘導表面改性等離子清洗粉體或顆粒表面等離子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的選擇性生長單晶或多晶金剛石生長???微波模塊:NANO-MASTER高質(zhì)量**命遠程微波源,頻率為2.45GH,微波**功率可以自主調(diào)節(jié),微波反射功率可通過調(diào)節(jié)降

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