TYDEX光學(xué)元件的清潔和處理

時(shí)間：2023-08-30作者：深圳維爾克斯光電有限公司瀏覽：31

對(duì)于使用者來(lái)說(shuō)，應(yīng)嚴(yán)格遵循TYDEX光學(xué)元件處理和清潔的注意事項(xiàng)，否則很有可能導(dǎo)致太赫茲光學(xué)元件的性能受到損傷。下面將分類(lèi)介紹太赫茲光學(xué)元件的處理和清潔。




一、太赫茲偏振片、陷波濾波器

1.處理

光學(xué)器件的光學(xué)表面對(duì)機(jī)械沖擊、污染和化學(xué)物質(zhì)非常敏感。因此，請(qǐng)?zhí)貏e注意這種光學(xué)元件。所有Thz光學(xué)元件都需要以面朝上的方式安裝或裝入外殼中。要卸下光學(xué)組件，請(qǐng)小心握住它的邊緣，不要碰到表面。切勿觸摸光學(xué)元件的凹槽表面！使用無(wú)塵手套處理零件時(shí)，僅握住光學(xué)元件的邊緣。切勿讓任何支架或蓋子接觸到凹槽表面。已交付的Thz光學(xué)元件應(yīng)使用專門(mén)設(shè)計(jì)的蓋子保護(hù)其表面，不要接觸表面本身。那些不使用的光學(xué)部件，無(wú)論是在實(shí)驗(yàn)室還是在生產(chǎn)車(chē)間，在沒(méi)有蓋子的時(shí)候應(yīng)該放在一個(gè)封閉的盒子里。不要在開(kāi)槽的表面上說(shuō)話或呼吸。當(dāng)需要你在零件的表面上說(shuō)話時(shí)，要戴上鼻罩和面罩。呼吸噴霧對(duì)工作表面特別不利，所以不應(yīng)直接在表面上說(shuō)話；而是轉(zhuǎn)過(guò)身去或捂住嘴（用手或外科口罩）。




2.清潔程序

對(duì)于THz元件清潔，較重要的建議是在**必要的情況下才清潔表面。建議用純空氣流從橡膠球中吹走灰塵（不要用壓縮空氣?。﹣?lái)清潔光學(xué)表面。在大多數(shù)情況下，這個(gè)程序已經(jīng)足夠了。如果在目視檢查后，污染物仍然留在表面，你可能需要在35-40°C的蒸餾水中用新鮮的0.1%肥皂溶液來(lái)清潔TYDEX太赫茲光學(xué)元件。要做到這一點(diǎn)，需要將器件浸入肥皂溶液中，并在3至5分鐘內(nèi)沖洗，用棉簽攪拌溶液，但不要接觸光學(xué)元件的鏡面；將元件從溶液中取出，用新鮮的蒸餾水沖洗；留在鏡面上的水滴應(yīng)只用橡皮球吹掉。不要使用棉絮、松鼠刷或任何其他配件進(jìn)行干燥!




二、鹽晶體（Salt crystal）

1.處理

對(duì)KBr、KCl和NaCl制成的光學(xué)器件應(yīng)特別注意，僅在特殊條件下打開(kāi)和使用這種光學(xué)器件。打開(kāi)任何水溶性材料時(shí)，環(huán)境濕度不應(yīng)**30%。

溴化鉀（KBr）： 有吸濕性，必須與無(wú)水溶劑一起使用。它能很好地承受熱和機(jī)械沖擊，但不能與水樣、甘油和低級(jí)醇類(lèi)一起使用。硬的光學(xué)涂層可以提供額外的防潮保護(hù)。將KBR儲(chǔ)存在干燥器或加熱柜中。

氯化鉀（KCl）： 有吸濕性，必須與無(wú)水溶劑一起使用。它能很好地承受熱和機(jī)械沖擊，但不能與低分子量的酒精一起使用。硬質(zhì)光學(xué)涂層可以提供額外的防潮保護(hù)。將氯化鉀儲(chǔ)存在干燥器或加熱柜中。

氯化鈉（NACl）： 比KBr較硬，吸濕性較小。 氯化鈉必須與無(wú)水溶劑一起使用。它能很好地承受熱和機(jī)械沖擊，但不能與低級(jí)醇或甘油一起使用。氯化鈉應(yīng)該儲(chǔ)存在干燥器或加熱柜中。堅(jiān)硬的光學(xué)涂層可以提供額外的防潮保護(hù)。

2.清潔程序

在**必要的情況下，只能由專門(mén)的授權(quán)人員來(lái)進(jìn)行太赫茲材料清潔，不要自行清洗水溶性光學(xué)器件。




三、傳統(tǒng)的光學(xué)元件

1.處理

太赫茲光學(xué)元件的處理需要小心謹(jǐn)慎。任何對(duì)表面質(zhì)量要求很高的部件在搬運(yùn)時(shí)，都不能讓異物，尤其是油脂接觸到表面。應(yīng)該用布、橡膠手套或事先用酒精（洗滌劑）和水清洗過(guò)的指套握住它們的邊緣。用裸露的手指握住邊緣，會(huì)在邊緣以及在工作的光學(xué)表面留下油脂。在存儲(chǔ)或額外運(yùn)輸之前，也應(yīng)盡可能地保護(hù)光學(xué)器件不受灰塵和其他環(huán)境的影響。強(qiáng)烈建議使用TYDEX的包裝箱和包裝方式。雖然提供一個(gè)完全無(wú)塵的環(huán)境可能是不可行的，但應(yīng)該在組件上直接使用一個(gè)蓋子，因?yàn)榇蠖鄶?shù)灰塵會(huì)直接向下傳播。許多類(lèi)型的污染物，如殘留的油、酸或溶劑，可以*性地?fù)p壞涂層和基材。

2.清潔程序

請(qǐng)使用高質(zhì)量的設(shè)備和工具來(lái)進(jìn)行TYDEX光學(xué)元件的清潔。用于清洗大多數(shù)TYDEX光學(xué)元件的材料包括加壓氣體（過(guò)濾的干氮?dú)猓o(wú)絨毛的鏡頭紙、溫和的肥皂、無(wú)絨毛的棉簽、無(wú)絨毛或無(wú)塵的手套和**溶劑，如試劑級(jí)異丙醇、試劑級(jí)丙酮或鏡頭清洗液。

無(wú)涂層的THz元件清潔：

人們應(yīng)該準(zhǔn)備好相應(yīng)的工作區(qū)域，這一點(diǎn)非常重要。因?yàn)閬?lái)自工作表面或工人的微粒污染通常會(huì)刮傷涂層。清除桌子上的所有東西，穿上干凈的衣服。盡可能靜止地工作，以免在清洗時(shí)將顆粒從頭發(fā)上抖落。在黑暗的房間里，在剛清洗過(guò)的高強(qiáng)度臺(tái)燈下工作，這樣明亮的光源在黑暗背景上的反射可以讓你看到你正在做什么。要確保工作表面不會(huì)被甲醇侵蝕。閱讀所有關(guān)于安全使用甲醇的預(yù)防措施，并遵循所有儲(chǔ)存和處理說(shuō)明。任何含有光學(xué)元件的區(qū)域應(yīng)禁止吸煙。煙霧蒸氣的沉積物很難從光學(xué)表面清除。除非另有說(shuō)明，所有的清潔方法（真空、干氮、刷子、棉花和/或鏡頭紙巾）都是從表面的中心向邊緣進(jìn)行。涂抹器（棉花、鏡頭紙）應(yīng)隨著清潔的推進(jìn)而旋轉(zhuǎn)，始終給被清潔的物體呈現(xiàn)一個(gè)干凈的表面。

灰塵是較常見(jiàn)的污染物，通?？梢杂眉訅簹怏w去除。如果需要更多的清潔，用鏡頭紙夾住鏡頭，滴上幾滴試劑級(jí)的丙酮或鏡頭清潔液。緩慢地轉(zhuǎn)動(dòng)鏡頭，同時(shí)在中間施壓并向外工作，將污物從鏡頭上拉下來(lái)，而不是在表面上重新分布。涂層鏡片上的指紋應(yīng)盡快清理，以避免沾染或損壞光學(xué)元件。然而，較大的污垢顆粒，在試圖用鏡片紙巾清潔光學(xué)器件之前，應(yīng)先用無(wú)塵吹風(fēng)機(jī)清除。困在布下的較大顆粒會(huì)劃傷你試圖清潔的表面。如果使用丙酮后，鏡片仍然很臟。例如，如果油只是重新分布而沒(méi)有從太赫茲光學(xué)元件上清洗掉，那么可以用溫和的肥皂溶液輕輕地清洗鏡片。用丙酮重復(fù)這個(gè)過(guò)程，最后用異丙醇來(lái)消除條紋和肥皂的殘留物。




鍍膜的THz元件清潔：

鍍有裸露的Au或其他外來(lái)材料的元件，如果沒(méi)有過(guò)度的保護(hù)層，可能對(duì)普通的清潔方法過(guò)于敏感。涂層光學(xué)器件的清洗程序與上述非涂層光學(xué)器件的清洗程序幾乎相同，但由于涂層的原因，需要較加注意對(duì)表面的護(hù)理。如果需要反復(fù)清洗鍍膜光學(xué)器件，建議使用蒸餾水，其使用頻率應(yīng)**清洗液，用鏡頭紙巾擦拭表面時(shí)應(yīng)使用較小的壓力。最后一步是在適當(dāng)?shù)馁|(zhì)量控制條件下仔細(xì)檢查光學(xué)器件的表面。


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• 詞條

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