HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

    某 Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門(mén) 11000, HVA 真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空, 只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.

    HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格: 

     閥門(mén)材質(zhì):

     - 閥門(mén)主體

     304 不銹鋼

     - 焊接波紋管軸封

     AM - 350

     閥門(mén)密封方式

     - 高真空

     氟橡膠

     - 高真空

     銅墊圈 / 氟橡膠

     真空:

     - 壓力范圍

     高真空 1x10-9 mbar, 高真空 1x10-10 mbar

     - 漏率

     < 2x10-9  mbar l/S

     - 差壓關(guān)閉

     1 bar ( 任意位置 )

     - 開(kāi)啟前大壓力

     ≤ 30 mbar

     烘烤溫度(不含電磁閥):

     - 彈性體密封閥蓋

     150°C

     - 金屬密封閥蓋

    -開(kāi)啟溫度:200°C

    -關(guān)閉值:150°C

     - 驅(qū)動(dòng)方式

     手動(dòng) 60 °c, 氣動(dòng) 60 °c

    機(jī)制

    手動(dòng):

    手搖曲柄

    電磁閥供電電壓

     120 VAC 50 /60 Hz

    電磁閥可選電壓

     24, 200, 240 VAC 50/60 Hz
     或 12, 24 VDC

     電磁閥位置指示器,大

     115 VAC
     或 28 VDC, 20 mA

    氣動(dòng)送風(fēng):

    80 psig

     使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實(shí)際使用情況決定)

     公稱(chēng)通徑: DN 16 - 800 mm

      

    E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測(cè)量, 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成.

     

    基片在做實(shí)驗(yàn)般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備, 要進(jìn)行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進(jìn)行射頻反應(yīng)清洗, 通過(guò)使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到光滑和均勻的表面.

     

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    上海伯東 : 羅女士


    伯東企業(yè)(上海)有限公司專(zhuān)注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • HVA 真空閥門(mén)71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護(hù)

    說(shuō)到真空閥門(mén), HVA 是繞不開(kāi)的, HVA 真空閥門(mén)是行業(yè)的者. HVA真空閥門(mén)包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門(mén)中 71000 系列閥門(mén), 憑借其在 HVA 閥門(mén)中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數(shù).?HVA?真空閥門(mén)?71000 系列由堅(jiān)固的不繡

  • KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

    上海伯東代理美國(guó)?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等!KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污

  • 上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用

    ? ? 紅外光學(xué)薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應(yīng)用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個(gè)領(lǐng)域.?在紅外光學(xué)應(yīng)用中,?由于鍺在2~14μm紅外波段內(nèi)有高而均勻的透過(guò)率,?是一種的優(yōu)良紅外光學(xué)材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過(guò)紅外波長(zhǎng)特性制成的各種紅外光學(xué)部件廣泛用于各類(lèi)紅外光學(xué)系統(tǒng).?&nbs

  • 分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用

    分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進(jìn)行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國(guó) Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進(jìn)行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室, 采用浸漬法進(jìn)行試驗(yàn), 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進(jìn)行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級(jí)泵和分子泵的結(jié)合, 體積小巧, 即插即

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