分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

時(shí)間：2024-01-12

渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時(shí)間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達(dá)到其使用要求.

渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COMPexPro205 型 KrF 激光器, 用于原位生長不同材料的多層薄膜. 通過伯東采購 2臺渦輪分子泵組 Hicube 80 Eco

渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例二: 某大學(xué)采購鎧柏科技 Adnano PLD 系統(tǒng), 使用伯東 Pfeiffer 分子泵和渦輪分子泵組.

上海伯東德國 Pfeiffer HiCube 80 便攜式分子泵組, 可以提供原有的真空度水平至半個(gè)數(shù)量級或加快抽空時(shí)間！
上海伯東 Pfeiffer 分子泵組 HiCube Eco 技術(shù)規(guī)格

泵組型號	進(jìn)氣法蘭	分子泵型號	抽速 l/s	限真空 hPa	前級泵型號	前級泵抽速 m3/h
Hicube 80 Eco	DN 40 ISO-KF	HiPace 80	35	1X10-7	MVP 015-2	0.5
	DN 63 CF-F	HiPace 80	67	1X10-8	MVP 015-2	1
	DN 63 ISO-K	HiPace 80	67	1X10-7	MVP 015-2	1

Pfeiffer 渦輪分子泵組整體模塊化設(shè)計(jì), 內(nèi)部集成前級泵和分子泵, "即插即用", 抽速范圍 35 至 685 L/S, 限真空 5X10-10 hPa, 提供經(jīng)濟(jì)型分子泵組 ECO, 標(biāo)準(zhǔn)型分子泵組 Classic 和渦輪分子泵組 Pro 滿足不同應(yīng)用, 搭配 Pfeiffer 真空計(jì)共同使用.

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上海伯東: 羅女士

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