光掩膜(mask)資料:
在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中,其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個(gè)過程,即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分,是流程中造價(jià)較高的一部分,也是限制較小線寬的瓶頸之一。
光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外,還廣泛的應(yīng)用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分,基板和不透光材料?;逋ǔJ歉呒兌龋头瓷渎?,低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍?cè)诓A路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠,硬度小且易吸附灰塵,不過干版還有包膜和**微顆粒干版,其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下,通常講的菲林即film,底片或膠片的意思,感光為微小晶體顆粒)。
在刻畫時(shí),采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,邊緣起點(diǎn)5mm,與電子束相比,其弧形較逼真,線寬與間距較小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有稱為中間掩膜,reticle作為單位譯為光柵),用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到master maks上,應(yīng)用到實(shí)際曝光中的為工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask復(fù)制過來。
詞條
詞條說明
墊片安裝要求1、密封墊片與法蘭密封面應(yīng)清洗干凈,不得有任何影響連接密封性能的劃痕、斑點(diǎn)等缺陷存在。2、密封墊片外徑應(yīng)比法蘭密封面外小,密封墊片內(nèi)徑應(yīng)比管道內(nèi)徑稍大,兩內(nèi)徑的差一般取密封墊片厚度的2倍,以保證壓緊后,密封墊片內(nèi)緣不致伸入容器或管道內(nèi),以免妨礙容器或管道中流體的流動(dòng)。3、密封墊片預(yù)緊力不應(yīng)**過設(shè)計(jì)規(guī)定,以免密封墊片過度壓縮喪失回彈能力。4、 密封墊片壓緊時(shí),較好使用扭矩扳手。對(duì)大型螺栓
空壓機(jī)閥片早期損壞、機(jī)身振動(dòng)是何原因
空壓機(jī)閥片早期損壞原因分析和如何排除:1.閥片制造材料及熱處理或加工不符要求;2.密封面損壞,升程大;3.吸入夾雜物;4.閥間混入冷凝水或多量的潤(rùn)滑油;5.閥導(dǎo)向面磨損引起閥片異常工作??諌簷C(jī)閥片早期損壞排除方法:1.調(diào)換符合要求的閥片;2.研磨閥片、閥座或換新的;3.清洗吸氣管道;4、排除冷凝水及防止過多的潤(rùn)滑油進(jìn)入氣閥。5、換閥座。空壓機(jī)機(jī)身振動(dòng)是何原因和如何排除:1、軸瓦、十字頭、滑板間隙過
往復(fù)式(活塞式)壓縮機(jī)在工業(yè)發(fā)展中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用特別是在制冷設(shè)備領(lǐng)域。壓縮機(jī)的**部件是氣閥作為氣閥的重要組成部分其壽命決定了壓縮機(jī)的故障維護(hù)時(shí)間。因此閥板材料的選擇是影響氣閥可靠性的關(guān)鍵因素之一。圖1:氣閥結(jié)構(gòu)圖壓縮機(jī)閥片對(duì)材料的要求n 高韌性:閥片需要高韌性。當(dāng)它承受沖擊力時(shí)它可以吸收一定的熱量或者當(dāng)有裂紋時(shí)它可以防止裂紋繼續(xù)擴(kuò)張。n 抗疲勞:閥片需要高頻往復(fù)沖擊因此閥片需要具有優(yōu)異的抗
密封墊片安裝要求1、密封墊片與法蘭密封面應(yīng)清洗干凈,不得有任何影響連接密封性能的劃痕、斑點(diǎn)等缺陷存在。2、密封墊片外徑應(yīng)比法蘭密封面外小,密封墊片內(nèi)徑應(yīng)比管道內(nèi)徑稍大,兩內(nèi)徑的差一般取密封墊片厚度的2倍,以保證壓緊后,密封墊片內(nèi)緣不致伸入容器或管道內(nèi),以免妨礙容器或管道中流體的流動(dòng)。3、密封墊片預(yù)緊力不應(yīng)**過設(shè)計(jì)規(guī)定,以免密封墊片過度壓縮喪失回彈能力。4、 密封墊片壓緊時(shí),較好使用扭矩扳手。對(duì)大型
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
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