中國光刻機(jī)行業(yè)專項(xiàng)調(diào)研及投資戰(zhàn)略咨詢報(bào)告2022-2027年

時(shí)間：2022-03-23作者：北京中研華泰信息技術(shù)研究院瀏覽：119

中國光刻機(jī)行業(yè)專項(xiàng)調(diào)研及投資戰(zhàn)略咨詢報(bào)告2022-2027年
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[報(bào)告編號(hào)]474582
[出版日期] 2022年3月
[出版機(jī)構(gòu)] 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)研究院
[交付方式] 電子版或特快專遞 
[報(bào)告價(jià)格] 紙質(zhì)版 6500元 電子版6800元 紙質(zhì)版+電子版7000元 
[客服專員] 李軍
  
**章　光刻機(jī)行業(yè)相關(guān)概述
1.1　光刻機(jī)的基本介紹
1.1.1　概念界定
1.1.2　構(gòu)成結(jié)構(gòu)
1.1.3　工作原理
1.1.4　工藝步驟
1.1.5　基本特點(diǎn)
1.2　光刻機(jī)的性能指標(biāo)
1.2.1　分辨率
1.2.2　物鏡鏡頭
1.2.3　光源波長(zhǎng)
1.2.4　曝光方式
1.2.5　套刻精度
1.2.6　工藝節(jié)點(diǎn)
1.3　光刻機(jī)的演變及分類
1.3.1　摩爾定律
1.3.2　光刻機(jī)的演變
1.3.3　光刻機(jī)的分類
*二章　2021-2022年**光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展分析
2.1　光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析
2.1.1　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈基本構(gòu)成
2.1.2　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游分析
2.1.3　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈中游分析
2.1.4　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈下游分析
2.2　**光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展綜述
2.2.1　發(fā)展環(huán)境分析
2.2.2　產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷程
2.2.3　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
2.2.4　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
2.2.5　供需關(guān)系分析
2.2.6　價(jià)格變化態(tài)勢(shì)
2.3　**光刻機(jī)細(xì)分市場(chǎng)分析
2.3.1　細(xì)分產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
2.3.2　i-line光刻機(jī)
2.3.3　KrF光刻機(jī)
2.3.4　ArF光刻機(jī)
2.3.5　ArFi光刻機(jī)
2.3.6　EUV光刻機(jī)
2.4　**光刻機(jī)重點(diǎn)企業(yè)運(yùn)營情況：ASML
2.4.1　企業(yè)發(fā)展概況
2.4.2　企業(yè)發(fā)展歷程
2.4.3　產(chǎn)業(yè)的生態(tài)鏈
2.4.4　創(chuàng)新股權(quán)結(jié)構(gòu)
2.4.5　經(jīng)營狀況分析
2.4.6　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
2.4.7　光刻產(chǎn)品布局
2.4.8　技術(shù)研發(fā)現(xiàn)狀
2.4.9　企業(yè)戰(zhàn)略分析
2.5　**光刻機(jī)重點(diǎn)企業(yè)運(yùn)營情況：Canon
2.5.1　企業(yè)發(fā)展概況
2.5.2　經(jīng)營狀況分析
2.5.3　企業(yè)業(yè)務(wù)分析
2.5.4　現(xiàn)有光刻產(chǎn)品
2.5.5　技術(shù)研發(fā)現(xiàn)狀
2.6　**光刻機(jī)重點(diǎn)企業(yè)運(yùn)營情況：Nikon
2.6.1　企業(yè)發(fā)展概況
2.6.2　經(jīng)營狀況分析
2.6.3　企業(yè)業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)
2.6.4　企業(yè)光刻產(chǎn)品
2.6.5　光刻技術(shù)研發(fā)
2.6.6　光刻業(yè)務(wù)面臨挑戰(zhàn)
*三章　2021-2022年中國光刻機(jī)行業(yè)政策環(huán)境分析
3.1　中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策分析
3.1.1　歷史政策梳理
3.1.2　重點(diǎn)政策分析
3.1.3　中外政策對(duì)比
3.2　中國半導(dǎo)體行業(yè)政策主要變化
3.2.1　規(guī)劃目標(biāo)的變化
3.2.2　發(fā)展側(cè)重點(diǎn)變化
3.2.3　財(cái)稅政策的變化
3.2.4　扶持主體標(biāo)準(zhǔn)變化
3.3　中國光刻機(jī)行業(yè)相關(guān)支持政策
3.3.1　產(chǎn)業(yè)重要政策
3.3.2　補(bǔ)貼基礎(chǔ)設(shè)施
3.3.3　扶持配套材料
3.3.4　完善產(chǎn)業(yè)環(huán)境
*四章　2021-2022年中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展環(huán)境分析
4.1　中美科技戰(zhàn)影響分析
4.1.1　《瓦森納協(xié)定》解讀
4.1.2　美方對(duì)華發(fā)動(dòng)科技戰(zhàn)原因
4.1.3　美對(duì)中科技主要制裁措施
4.1.4　中美科技領(lǐng)域摩擦的影響
4.2　經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析
4.2.1　宏觀經(jīng)濟(jì)概況
4.2.2　對(duì)外經(jīng)濟(jì)分析
4.2.3　工業(yè)經(jīng)濟(jì)運(yùn)行
4.2.4　宏觀經(jīng)濟(jì)展望
4.3　投融資環(huán)境分析
4.3.1　半導(dǎo)體行業(yè)資金來源
4.3.2　大基金一期完成情況
4.3.3　大基金一期投向企業(yè)
4.3.4　大基金二期實(shí)行現(xiàn)狀
4.3.5　各省市資金扶持情況
4.4　人才需求環(huán)境分析
4.4.1　中國人才需求現(xiàn)狀概況
4.4.2　人才與薪酬呈現(xiàn)雙增長(zhǎng)
4.4.3　制造行業(yè)人才供需失衡
4.4.4　**創(chuàng)新領(lǐng)域人才緊缺
4.4.5　人才培養(yǎng)機(jī)制暫不健全
*五章　2021-2022年中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展綜況
5.1　中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展綜述
5.1.1　行業(yè)發(fā)展背景
5.1.2　行業(yè)發(fā)展歷程
5.1.3　行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
5.1.4　產(chǎn)業(yè)上游分析
5.1.5　產(chǎn)業(yè)下游分析
5.2　中國光刻機(jī)行業(yè)運(yùn)行狀況
5.2.1　行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素
5.2.2　企業(yè)區(qū)域分布
5.2.3　國內(nèi)采購需求
5.2.4　國產(chǎn)供給業(yè)態(tài)
5.2.5　行業(yè)投融資情況
5.3　2021-2022年中國光刻機(jī)進(jìn)出口數(shù)據(jù)分析
5.3.1　進(jìn)出口總量數(shù)據(jù)分析
5.3.2　主要貿(mào)易國進(jìn)出口情況分析
5.3.3　主要省市進(jìn)出口情況分析
5.4　中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展問題
5.4.1　主要問題分析
5.4.2　產(chǎn)業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)
5.4.3　行業(yè)發(fā)展痛點(diǎn)
5.4.4　行業(yè)發(fā)展風(fēng)險(xiǎn)
5.5　中國光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展對(duì)策
5.5.1　增加科研投入
5.5.2　加快技術(shù)突破
5.5.3　加強(qiáng)人才積累
*六章　2020-2022年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游分析
6.1　光刻**組件重點(diǎn)行業(yè)發(fā)展分析
6.1.1　雙工作臺(tái)
6.1.2　光源系統(tǒng)
6.1.3　物鏡系統(tǒng)
6.2　光刻配套設(shè)施重要行業(yè)發(fā)展分析
6.2.1　光刻氣體
6.2.2　光掩膜版
6.2.3　缺陷檢測(cè)
6.2.4　涂膠顯影
6.3　光刻**組件重點(diǎn)企業(yè)解析
6.3.1　雙工作臺(tái)：華卓精科
6.3.2　浸沒系統(tǒng)：?jiǎn)枡C(jī)電
6.3.3　曝光系統(tǒng)：國科精密
6.3.4　光源系統(tǒng)：科益虹源
6.3.5　物鏡系統(tǒng)：國望光學(xué)
6.4　光刻配套設(shè)施重點(diǎn)企業(yè)解析
6.4.1　配套光刻氣：華特氣體、凱美特氣
6.4.2　光掩膜版：清溢光電、菲利華
6.4.3　缺陷檢測(cè)：東方晶源
6.4.4　涂膠顯影：芯源微
*七章　2021-2022年光刻機(jī)上游——光刻膠行業(yè)分析
7.1　光刻膠行業(yè)發(fā)展綜述
7.1.1　光刻膠的定義
7.1.2　光刻膠的分類
7.1.3　光刻膠重要性
7.1.4　技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)
7.2　**光刻膠行業(yè)發(fā)展
7.2.1　光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈
7.2.2　行業(yè)發(fā)展歷程
7.2.3　市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
7.2.4　細(xì)分市場(chǎng)分析
7.3　中國光刻膠企業(yè)發(fā)展
7.3.1　國產(chǎn)市場(chǎng)現(xiàn)狀
7.3.2　行業(yè)發(fā)展規(guī)模
7.3.3　企業(yè)布局分析
7.4　國產(chǎn)光刻膠重點(diǎn)企業(yè)運(yùn)營情況
7.4.1　江蘇南大光電材料股份有限公司
7.4.2　蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司
7.4.3　江蘇雅克科技股份有限公司
7.4.4　深圳市容大感光科技股份有限公司
7.4.5　上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司
7.4.6　北京科華微電子材料有限公司
*八章　2020-2022年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用分析
8.1　芯片領(lǐng)域
8.1.1　芯片相關(guān)概念
8.1.2　芯片制程工藝
8.1.3　行業(yè)運(yùn)營模式
8.1.4　芯片產(chǎn)品分類
8.1.5　行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
8.1.6　行業(yè)產(chǎn)量規(guī)模
8.1.7　產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)分布
8.2　芯片封裝測(cè)試領(lǐng)域
8.2.1　封裝測(cè)試概念
8.2.2　市場(chǎng)規(guī)模分析
8.2.3　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
8.2.4　國內(nèi)重點(diǎn)企業(yè)
8.2.5　封測(cè)技術(shù)發(fā)展
8.2.6　行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)
8.3　LED領(lǐng)域
8.3.1　LED行業(yè)概念
8.3.2　行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈條
8.3.3　產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模
8.3.4　**競(jìng)爭(zhēng)格局
8.3.5　應(yīng)用領(lǐng)域分析
8.3.6　行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)
*九章　2021-2022年光刻機(jī)行業(yè)技術(shù)發(fā)展分析
9.1　**光刻技術(shù)發(fā)展綜述
9.1.1　**技術(shù)演進(jìn)階段
9.1.2　**技術(shù)發(fā)展瓶頸
9.1.3　**技術(shù)發(fā)展方向
9.2　中國光刻技術(shù)發(fā)展態(tài)勢(shì)
9.2.1　中國研發(fā)進(jìn)展分析
9.2.2　國內(nèi)技術(shù)研發(fā)狀況
9.2.3　中國發(fā)展技術(shù)問題
9.2.4　國內(nèi)技術(shù)研究方向
9.3　光刻機(jī)行業(yè)**技術(shù)狀況
9.3.1　數(shù)據(jù)來源分析及介紹
9.3.2　專利申請(qǐng)趨勢(shì)分析
9.3.3　技術(shù)產(chǎn)出區(qū)域分析
9.4　光刻機(jī)重點(diǎn)技術(shù)分析
9.4.1　接觸接近式光刻技術(shù)
9.4.2　投影式光刻技術(shù)
9.4.3　步進(jìn)式光刻技術(shù)
9.4.4　雙工作臺(tái)技術(shù)
9.4.5　雙重圖案技術(shù)
9.4.6　多重圖案技術(shù)
9.4.7　浸沒式光刻機(jī)技術(shù)
9.4.8　較紫外光刻技術(shù)
9.5　“02專項(xiàng)”項(xiàng)目分析
9.5.1　“02專項(xiàng)”項(xiàng)目概述
9.5.2　“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”項(xiàng)目
9.5.3　“較紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目
9.5.4　“**分辨光刻裝備研制”項(xiàng)目
*十章　2021-2022年中國光刻機(jī)成員企業(yè)運(yùn)營分析
10.1　上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
10.1.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.1.2　產(chǎn)品業(yè)務(wù)分析
10.1.3　經(jīng)營情況分析
10.1.4　企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)劣勢(shì)
10.1.5　企業(yè)股權(quán)結(jié)構(gòu)
10.1.6　技術(shù)研究分析
10.2　合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司
10.2.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.2.2　企業(yè)發(fā)展歷程
10.2.3　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
10.2.4　技術(shù)研發(fā)分析
10.2.5　**競(jìng)爭(zhēng)力
10.3　無錫影速半導(dǎo)體科技有限公司
10.3.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.3.2　企業(yè)股權(quán)結(jié)構(gòu)
10.3.3　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
10.3.4　技術(shù)研發(fā)分析
10.4　北京半導(dǎo)體**設(shè)備研究所
10.4.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.4.2　企業(yè)客戶構(gòu)成
10.4.3　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
10.4.4　技術(shù)研發(fā)分析
10.4.5　**競(jìng)爭(zhēng)力分析
10.5　成都晶普科技有限公司
10.5.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.5.2　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
10.5.3　技術(shù)研發(fā)分析
10.5.4　**競(jìng)爭(zhēng)力分析
*十一章　2021-2022年中國光刻機(jī)市場(chǎng)前景分析
11.1　光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展前景
11.1.1　**產(chǎn)品發(fā)展趨勢(shì)
11.1.2　**應(yīng)用場(chǎng)景趨勢(shì)
11.1.3　中國技術(shù)發(fā)展機(jī)遇
11.1.4　中國市場(chǎng)需求機(jī)遇
11.2　“十四五”時(shí)期光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展展望
11.2.1　**制程推進(jìn)加快光刻機(jī)需求
11.2.2　材料設(shè)備發(fā)展加速產(chǎn)業(yè)鏈完善
11.3　2022-2027年中國光刻機(jī)行業(yè)預(yù)測(cè)分析
11.3.1　2022-2027年中國光刻機(jī)行業(yè)影響因素
11.3.2　2022-2027年中國光刻機(jī)行業(yè)銷售規(guī)模預(yù)測(cè)

圖表目錄
圖表　光刻機(jī)結(jié)構(gòu)
圖表　光刻機(jī)組成部分及作用
圖表　光刻機(jī)工作原理
圖表　正性光刻和負(fù)性光刻
圖表　光刻工藝流程圖
圖表　IC制造工序
圖表　產(chǎn)線中晶圓制造設(shè)備投資額占比
圖表　光刻機(jī)光源類型
圖表　接觸式曝光分類
圖表　投影式曝光分類
圖表　各個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)和工藝及光刻機(jī)類型的關(guān)系圖
圖表　光刻機(jī)演變歷程
圖表　EUV光刻機(jī)發(fā)展規(guī)劃路徑
圖表　接近接觸式光刻分類
圖表　光刻機(jī)分類
圖表　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈
圖表　光刻機(jī)組成結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)
圖表　光刻機(jī)上下游市場(chǎng)產(chǎn)業(yè)鏈及關(guān)鍵企業(yè)
圖表　**光刻機(jī)市場(chǎng)除ASML、Canon、Nikon規(guī)模以上企業(yè)
圖表　2021年光刻機(jī)**出貨情況
圖表　2021年**光刻機(jī)企業(yè)市場(chǎng)份額占比
圖表　2015-2021年光刻機(jī)歷年競(jìng)爭(zhēng)格局（按銷量）
圖表　2015-2021年光刻機(jī)三大供應(yīng)商歷年銷量
圖表　2017-2021年光刻機(jī)三大供應(yīng)商的歷年**銷售額
圖表　2020-2022年**晶圓廠設(shè)備（**）開支預(yù)測(cè)
圖表　不同晶圓制造產(chǎn)線所需光刻機(jī)數(shù)量
圖表　2020年-2021年ASML在中國銷售情況
圖表　1960-2021年IC前道光刻機(jī)價(jià)格變化
圖表　2021年光刻機(jī)**市場(chǎng)的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)（銷量）
圖表　2021年光刻機(jī)**市場(chǎng)的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)（金額）
圖表　2015-2021年光刻機(jī)各類產(chǎn)品銷量
圖表　2015-2021年各類光刻機(jī)產(chǎn)品**銷售額
圖表　**大光刻機(jī)企業(yè)i-line產(chǎn)品
圖表　2018-2021年i-line光刻機(jī)銷量
圖表　**大光刻機(jī)企業(yè)KrF產(chǎn)品
圖表　2018-2021年KrF光刻機(jī)銷量
圖表　**大光刻機(jī)企業(yè)ArF產(chǎn)品
圖表　2018-2021年ArF光刻機(jī)銷量
圖表　**大光刻機(jī)企業(yè)ArFi產(chǎn)品
圖表　2018-2021年ArFi光刻機(jī)銷量
圖表　ASML EUV產(chǎn)品
圖表　2018-2021年EUV光刻機(jī)銷量
圖表　2011-2021年EUV光刻機(jī)銷售及增速
圖表　2011-2021年EUV光刻機(jī)單價(jià)變動(dòng)
圖表　2000之前為ASML快速增長(zhǎng)期
圖表　1999年ASML區(qū)域市場(chǎng)收入占比
圖表　浸沒式系統(tǒng)幫助ASML毛利率與凈利率提升
圖表　ASML收購打通EUV產(chǎn)業(yè)鏈
圖表　ASML產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)分布
圖表　ASML主要上游供應(yīng)商
圖表　2018-2019年ASML綜合收益表
圖表　2018-2019年ASML分部資料
圖表　2018-2019年ASML收入分地區(qū)資料
圖表　2019-2020年ASML綜合收益表
圖表　2019-2020年ASML分部資料
圖表　2019-2020年ASML收入分地區(qū)資料
圖表　2020-2021年ASML綜合收益表
圖表　2020-2021年ASML分部資料
圖表　2020-2021年ASML收入分地區(qū)資料
圖表　ASML2021年光刻機(jī)銷售收入按產(chǎn)品拆分
圖表　ASML2021年光刻機(jī)銷售凈利潤按地區(qū)拆分
圖表　ASML2019年-2021年光刻機(jī)收入按下游應(yīng)用拆分
圖表　2018-2019年CANON綜合收益表
圖表　2018-2019年CANON分部資料
圖表　2018-2019年CANON收入分地區(qū)資料
圖表　2019-2020年CANON綜合收益表
圖表　2019-2020年CANON分部資料
圖表　2019-2020年CANON收入分地區(qū)資料
圖表　2020-2021年CANON綜合收益表
圖表　2020-2021年CANON分部資料
圖表　2020-2021年CANON收入分地區(qū)資料
圖表　Canon現(xiàn)有光刻機(jī)產(chǎn)品
圖表　佳能2017-2021年光刻機(jī)設(shè)備出貨量情況
圖表　佳能2018-2021年光刻機(jī)設(shè)備營收
圖表　光刻工藝與納米壓印光刻對(duì)比
圖表　尼康發(fā)展歷程
圖表　2018-2019年NIKON綜合收益表
圖表　2018-2019年NIKON分部資料
圖表　2018-2019年NIKON收入分地區(qū)資料
圖表　2019-2020年NIKON綜合收益表
圖表　2019-2020年NIKON分部資料
 
 
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