據(jù)了解,離子中半導(dǎo)體中的雜質(zhì)有兩類:一類為含有提供電子,增加電子濃度的雜質(zhì),稱為給主雜質(zhì)或施主雜質(zhì),另一類為含有增加空穴濃度的雜質(zhì),稱為受主雜質(zhì)。含有給主雜質(zhì)的半導(dǎo)體,其電子數(shù)目占優(yōu)勢,主要的載流于是電子;含有受主雜質(zhì)的半導(dǎo)體,其空穴數(shù)目占優(yōu)勢,主要的載流于是空穴。前者稱為N型半導(dǎo)體,后者稱為P型半導(dǎo)體。N型半導(dǎo)體以電子導(dǎo)電為主,P型半導(dǎo)體以空穴導(dǎo)電為主。
所謂雜質(zhì),不僅僅是混入的外來雜質(zhì),實(shí)際上,化學(xué)計(jì)算中的缺量或余量都統(tǒng)稱為雜質(zhì)。例如,方鉛礦化學(xué)分子式PbS中**過或不足的Pb或S均為方鉛礦的雜質(zhì)。微置的雜質(zhì),如0.1%,可以使半導(dǎo)體的電子濃度增加一個(gè)數(shù)量級。當(dāng)磨機(jī)簡體達(dá)到臨界轉(zhuǎn)速n0時(shí),由于研磨體緊貼筒壁上,不能起到粉碎作用,因此對物料的粉碎功為零。當(dāng)簡體轉(zhuǎn)速較慢時(shí),研磨體呈瀉落狀態(tài)運(yùn)動(dòng),對物料的粉碎作用很弱,即對物料的粉碎功很小,可見研磨體對物料的粉碎所消耗的功是簡體轉(zhuǎn)速的函數(shù)。
通常,金屬過置,明離子不足時(shí),為了保持晶格的電中性,很容易接受電子,產(chǎn)生電子導(dǎo)電;反之,非金屬過量,陽離子不足,容易產(chǎn)生空穴導(dǎo)電。所以可以使用蒸汽烘干機(jī)進(jìn)行烘干。因此,使研磨體產(chǎn)生較大粉碎功時(shí)的簡體轉(zhuǎn)速就稱為球磨機(jī)的理論適宜轉(zhuǎn)速n0要想得到較大的粉碎功,研磨體**具有較大的降落高度。
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**顎式破碎機(jī)較佳性能的因素 ?????? ?這里介紹一種較簡單的測繪動(dòng)顎運(yùn)動(dòng)特性的方法:在一張白紙上標(biāo)定直角坐標(biāo)并將它貼在破碎機(jī)給料口機(jī)架側(cè)壁內(nèi)側(cè),然后用手拿支鉛筆按在動(dòng)顎給料口水平高度處,將筆尖**在紙上,慢慢地轉(zhuǎn)動(dòng)皮帶輪一周后,白紙上就描繪出真實(shí)的動(dòng)顎運(yùn)動(dòng)軌跡;排料口也是用同樣方法測繪。最后用尺量出實(shí)際數(shù)值,由此可評定動(dòng)顎
目前有水平圓振動(dòng)的破碎機(jī)很受歡迎 ??????? 慣性圓錐破碎機(jī)機(jī)體坐落在隔振系統(tǒng)上,設(shè)隔振系統(tǒng)的剪切彈性剛度為K,慣性破碎機(jī)和機(jī)中的物料總質(zhì)量為m,破碎機(jī)在水平面內(nèi)任意方向受到的慣性力為F,則具有水平圓振動(dòng)的慣性圓錐破碎機(jī)。盡管固體表面前緣的大部分是水分子,但是,也有一些沒有發(fā)生水化作用的陰離子,或大直徑的陽離于到達(dá)固體表面
冷卻器定期清潔可以提高使用壽命 ??????? 據(jù)了解, 常用的冷卻器有水冷和氣冷兩種。潤滑系統(tǒng)**備有冷卻器,它的作用是冷卻**54℃的潤滑油。當(dāng)油溫**38℃時(shí)不要使用潤滑油冷卻器。這是由于沿滑動(dòng)面的剪切運(yùn)動(dòng)造成電荷密度梯度增高,從而引起界面內(nèi)電荷分布的不平衡。此不平衡將為滑動(dòng)面兩邊的電荷流動(dòng)所反抗。流動(dòng)電荷力圖恢復(fù)原來界
列舉影響礦物浮選的化學(xué)平衡條件 ??????? 礦物在水中的溶解度,對改變液相中的化學(xué)組成和固一液界面電性起著次定性的作用,因此,對浮選過程具有相當(dāng)重要意義。對于一般礦物,當(dāng)水化能**其晶格能時(shí)即發(fā)生溶解,一直進(jìn)行到被溶解離子在兩相(水和顆粒)的化學(xué)位相等時(shí)為止。這種破碎方法稱為強(qiáng)迫內(nèi)層振動(dòng)破碎?,F(xiàn)有破碎機(jī),如慣性振動(dòng)圓錐破碎
公司名: 河南冬青礦山機(jī)器公司
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