在使用光化學反應(yīng)儀裝置時該注意的事項

    光化學反應(yīng)儀的損壞,常常伴隨著很多原因,其都有哪些因素,基本有一下幾點原因:
     

    1)靜電穿刺
     

    光化學反應(yīng)儀內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體,懸浮物與反應(yīng)劇烈的磨擦,還懸浮物自身也發(fā)作磨擦,多么就發(fā)作很多的靜電荷,高的靜電荷對反應(yīng)發(fā)作劇烈的穿刺效果,然后招致反應(yīng)點蝕,因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。
     

    2)機械損壞
     

    光化學反應(yīng)儀抗沖擊力非常差,任何金屬、硬物對其停止撞擊均會招致反應(yīng)破損。因此光化學反應(yīng)儀運用進程中謹防任何金屬、硬物失落進釜內(nèi),如遇堵料,必需用塑料棒疏浚,檢修時蓋好鍋蓋,謹防焊渣凝結(jié)瓷面呈現(xiàn)小坑或爆瓷。
     

    3)析氫腐蝕
     

    光化學反應(yīng)儀的夾套在運用一段時間后會結(jié)垢和生銹,假設(shè)運用酸性除垢劑肅清污垢或夾套中的冷卻液偏酸性,都邑招致金屬發(fā)作析氫腐蝕 (Fe+2HCI=FeC12+H2O一部分H原子分散到金屬內(nèi)空穴,連系成}b,這些H:由于反應(yīng)的致密性而不克不及再向外分散,因此當Hz聚積到必然的程度,構(gòu)成定的動力時,反應(yīng)就會發(fā)作分裂。
     

    4)加工應(yīng)力損壞
     

    在釜體加工進程中,由于卷筒、沖壓、焊接發(fā)作很多的內(nèi)應(yīng)力,這些應(yīng)力在反應(yīng)前應(yīng)徹底消弭,如消弭不徹底會招致反應(yīng)爆瓷。這種損壞常常發(fā)作在投入運用后的頭三個月。所以對胚體停止熱處置或時效處置能防止爆瓷。
     

    光化學反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動力學常數(shù),測定**產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領(lǐng)域。


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