等離子清洗機(jī)去除晶圓Wafer光刻膠

時(shí)間：2022-03-30作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：535

等離子清洗機(jī)能去除晶圓表面肉眼看不到的表面污染物，使得晶圓表面變得清潔并具親水性

芯片制作完成后殘余的光刻膠無法用濕式法清洗，只能通過等離子清洗機(jī)進(jìn)行去除，晶圓級(jí)封裝前等離子清洗機(jī)處理的目的是去除表面的無機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。



等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場(chǎng)合，通過等離子清洗機(jī)的表面處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除**污染物、油污或油脂.




等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝上的應(yīng)用
等離子體清洗具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強(qiáng)電場(chǎng)作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機(jī)在去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),而且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及**溶劑等,





等離子清洗機(jī)對(duì)晶圓光刻膠的應(yīng)用：等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括處理、灰化/光刻膠/聚合物去除、介電質(zhì)刻蝕等等。使用等離子清洗機(jī)不僅去除光刻膠和其他**物，而且活化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤(rùn)性。只需要通過等離子清洗設(shè)備的簡(jiǎn)單處理，就能將自由基將高分子聚合物去除干凈，包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物。達(dá)到其他清理方式很難完成的效果















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  詞條說明

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