工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層,工件需經(jīng)研磨或拋光,并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。
一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。
二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。
三、研磨過(guò)的表面、用磨刀石磨過(guò)的表面、拋光的表面或用磨盤(pán)磨過(guò)的表面必須沒(méi)有研磨劑和殘余物。
四、刀刃必須無(wú)毛刺,以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。
五、在EDM(電火花加工)工藝中,推薦制作多個(gè)表面處理通路來(lái)減少“白層”的形成。
六、表面必須是光亮的金屬。銹蝕的表面、褐色的光制表面、蒸氣燒藍(lán)的表面或經(jīng)類(lèi)似處理的表面不能涂層。
七、盲孔和內(nèi)螺紋必須沒(méi)有硬化鹽和其它污染物。
八、碎屑、蠟、膠帶、油漆和其它非金屬雜質(zhì)、研磨粉、清洗劑殘留物、指紋和類(lèi)似物必須從工件上去除。
九、焊接接頭和銅焊接頭必須沒(méi)有氣孔、焊劑和鎘化物。
十、工件應(yīng)去磁。
要涂層的功能表面平均粗糙度Rz 可當(dāng)成**個(gè)常規(guī)指示器使用。該值應(yīng)與涂層厚度在同一數(shù)量級(jí)內(nèi)。
在表面粗糙度值較高時(shí),由于局部表面壓力太高,所以存在涂層被剝離(在粗糙度峰值處)或斷裂的危險(xiǎn)。
詞條
詞條說(shuō)明
離子鍍的原理:離子鍍是在真空室中,利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí),將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來(lái), 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量,而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng),繞射性好,膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過(guò)產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體,其中離子之間
工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層,工件需經(jīng)研磨或拋光,并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過(guò)的表面、用磨刀石磨過(guò)的表面、拋光的表面或用磨盤(pán)磨過(guò)的表面必須沒(méi)有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無(wú)毛刺,以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM(
? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置,其靶位分布可靈活調(diào)整,膜層均勻性?xún)?yōu)越,配備不同的靶材,可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng),致密性高的優(yōu)點(diǎn),可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿(mǎn)足了
真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、**的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝潢裝飾,燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領(lǐng)域。磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)可以再金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷)的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應(yīng)物(氧化物、氮化物、炭化物)、
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