KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜

時間：2024-01-10

HUD 已經成為一種常見的汽車配置與功能, 通過它來直觀顯示速度、發(fā)動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息, 減少因低頭查看儀表盤而造成的分心, 提升駕駛. 目前量產的車用抬頭顯示 HUD 正在從風擋型 W-HUD 逐漸向增強現(xiàn)實型的 AR-HUD 發(fā)展：從單純的信息展示屏幕, 變成了具有在實際路況位置產生警示符號的增強現(xiàn)實(AR) 效果.

W-HUD/AR-HUD 一直都依賴光學凹面鏡成像原理實現(xiàn)距離與視覺尺寸的放大, AR-HUD大的技術挑戰(zhàn)在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸變差暈眩問題與太陽光倒灌燒毀光機的問題. 要使用越小的體積產生同樣的長虛像距離 (VID) 距離, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 陽光倒灌與暈畸變差眩就越嚴重. 防陽光倒灌濾光片可通過 RGB 窄帶濾光片來實現(xiàn). 濾光片可實現(xiàn)可見光波段的高透過率, 同時截止近紅外和紫外波段, 獲得高的亮度測量靈敏度和動態(tài)范圍.

KRi 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜

上海伯東某客戶使用的鍍膜設備, 配備美國 KRI 射頻離子源輔助鍍膜通過測驗, 得到具有高透過率、高匹配精度、膜層致密度和牢固度, 高低溫變化波長不漂移, 惡劣環(huán)境下耐久性良好的 RGB 窄帶濾光片, 上海伯東為車載AR-HUD TFT 防陽光倒灌提供了鍍膜解決方案.

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間長! 射頻源 RF 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術參數(shù):

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產品, 協(xié)助客戶生產研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.

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上海伯東: 羅小姐

詞條
詞條說明
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
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