1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來(lái)說(shuō),空氣主要由、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。
2、當(dāng)空氣的溫度降低到的沸點(diǎn)-196攝氏度(-321華氏度)以下時(shí),成分會(huì)開始液化,從氣體狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橐后w狀態(tài)。這是因?yàn)樵谶@個(gè)溫度下,的分子間相互作用足夠強(qiáng)大,使得分子聚集在一起形成液體。然而,其他成分如氧氣等可能仍然處于氣體狀態(tài),因?yàn)樗鼈兙哂胁煌姆悬c(diǎn)。因此,整個(gè)空氣并不會(huì)完1全液化,而是部分液化。
3、這也是為何老師用冷井來(lái)過(guò)濾真空環(huán)境 就是大部分氣體被冷井表面吸附 由于大部分氣體被吸附 真空度才會(huì)高 正常來(lái)講 這個(gè)吸附得到的真空度比分子泵的效 4、減體分子的熱運(yùn)動(dòng):的低溫度可以降低氣體分子的熱運(yùn)動(dòng),減體分子與容器壁之間的碰撞,從而減體分子進(jìn)入真空室的數(shù)量。
凝固揮發(fā)性物質(zhì):在真空系統(tǒng)中,有些揮發(fā)性物質(zhì)容易在較高溫度下蒸發(fā),從而增加氣體分子的數(shù)量。通過(guò)冷卻,可以將這些揮發(fā)性物質(zhì)冷卻至低溫,使其凝固或減少蒸發(fā),從而減體分子的來(lái)源。吸附氣體的冷凝:冷卻可以使吸附在真空系統(tǒng)內(nèi)壁或其他表面上的氣體冷凝為液體。這些吸附氣體的冷凝可以減少系統(tǒng)內(nèi)的氣體分子數(shù)量,從而提高真空度。
詞條
詞條說(shuō)明
1. 工作頻率:40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫(40,000赫茲),而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫(13,560,000赫茲)。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果:40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果,但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆?;蛭廴疚锶コЧ赡懿患选6?3.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒
直流負(fù)壓濺射和直流濺射??在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正,而樣品端(襯底)被接到負(fù)或接地。??? ?然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會(huì)被接到正以吸引多余的離子,從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜
探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.?不良晶片產(chǎn)生???解決方案:換晶片b.?晶片接近其使用壽命??解決方案:換晶片c.?晶片支承座表面有雜物???解決方案:用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.?來(lái)自濺射源的頻率干涉???解決方案:&n
1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來(lái)說(shuō),空氣主要由、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到的
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