X光鍍層測(cè)厚儀采用磁性和渦流兩種方法進(jìn)行測(cè)厚

          X光鍍層測(cè)厚儀可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,不單性能優(yōu)越,而且價(jià)錢(qián)**值,同比其他牌子相同配置的機(jī)器,X光鍍層測(cè)厚儀為您大大節(jié)省成本。只需數(shù)秒鐘,便能非破壞性地得到準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果,甚至是多層鍍層的樣品也一樣能勝任。全自動(dòng)XYZ樣品臺(tái),鐳射自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng),十字線(xiàn)自動(dòng)調(diào)整。**大/開(kāi)放式的樣品臺(tái),可測(cè)量較大的產(chǎn)品。是線(xiàn)路板、五金電鍍、首飾、端子等行業(yè)的選擇??蓽y(cè)量各類(lèi)金屬層、合金層厚度等。

    X光鍍層測(cè)厚儀的工作原理:

    X光鍍層測(cè)厚儀采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法,可無(wú)損地測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度及非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度。

    1、磁性法(F型測(cè)量頭):

    當(dāng)測(cè)量頭與覆蓋層接觸時(shí),測(cè)量頭和磁性金屬基體構(gòu)成一閉合磁路,由于非磁性覆蓋層的存在,使磁路磁阻變化,通過(guò)測(cè)量其變化可導(dǎo)出覆蓋層的厚度。

    2、渦流法(N型測(cè)量頭):

    利用高頻交變電流在線(xiàn)圈中產(chǎn)生一個(gè)電磁場(chǎng),當(dāng)測(cè)量頭與覆蓋層接觸時(shí),金屬基體上產(chǎn)生電渦流,并對(duì)測(cè)量頭中的線(xiàn)圈產(chǎn)生反饋?zhàn)饔茫ㄟ^(guò)測(cè)量反饋?zhàn)饔玫拇笮】蓪?dǎo)出覆蓋層的厚度。

    X光鍍層測(cè)厚儀的產(chǎn)品特點(diǎn):

    1、良好的射線(xiàn)屏蔽作用。

    2、測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)。

    3、高分辨率探頭使分析結(jié)果較加。

    4、滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求。

    5、φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求。

    6、高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm。

    7、采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度。

    8、定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊。

    9、鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)。


    蘇州實(shí)譜儀器有限公司專(zhuān)注于手持式光譜儀,X熒光光譜儀,rohs檢測(cè)儀器等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • X光鍍層測(cè)厚儀使用性能特點(diǎn)有哪些?

    ? ? ? X光鍍層測(cè)厚儀采用的是一種XRF光譜分析技術(shù),X光管產(chǎn)生的X射線(xiàn)打到被測(cè)樣品時(shí)可以擊出原子的內(nèi)層電子,出現(xiàn)殼層空穴,當(dāng)外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來(lái)填充軌道空穴時(shí),就會(huì)產(chǎn)生特征X射線(xiàn)。X射線(xiàn)探測(cè)器將樣品元素的X射線(xiàn)的特征譜線(xiàn)的光信號(hào)轉(zhuǎn)換成易于測(cè)量的電信號(hào)來(lái)得到待測(cè)元素的特征信息。 X光鍍層測(cè)厚儀是將X射線(xiàn)照射在樣品上,通過(guò)從樣品上反射出來(lái)的*二次X射線(xiàn)的

  • x射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀在檢測(cè)時(shí)具有什么原理?

    ? ? ?x射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要環(huán)節(jié),是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必要手段。為使產(chǎn)品化,我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)鍍層厚度有了明確要求。使用x射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀的主要測(cè)量方法有:楔切法,光截法,電解法,厚度差測(cè)量法,稱(chēng)重法,X射線(xiàn)熒光法,β射線(xiàn)反向散射法,電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。這些方法中**種是有損檢測(cè),測(cè)量手段繁瑣,速度慢,多

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    ? ? ? X光鍍層測(cè)厚儀已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要環(huán)節(jié),是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必要手段。為使產(chǎn)品化,我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)鍍層厚度有了明確要求。X射線(xiàn)是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量,測(cè)量范圍較小,X射線(xiàn)法可測(cè)較薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。X射線(xiàn)法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。隨著技術(shù)的日益進(jìn)步,特別是近年來(lái)引入微機(jī)技術(shù)后,采用X射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀 向微型、

  • x熒光鍍層測(cè)厚儀在使用上擁有諸多優(yōu)勢(shì)

    ? ? ? ?x熒光鍍層測(cè)厚儀使用高效而實(shí)用的正比計(jì)數(shù)盒和電制冷探測(cè)器,以實(shí)在的價(jià)格定位滿(mǎn)足鍍層厚度測(cè)量的要求,且的較具有現(xiàn)代感的外形、結(jié)構(gòu)及色彩設(shè)計(jì),使儀器操作較人性化、較方便。 工作原理: x熒光鍍層測(cè)厚儀是將X射線(xiàn)照射在樣品上,通過(guò)從樣品上反射出來(lái)的*二次X射線(xiàn)的強(qiáng)度來(lái)。測(cè)量鍍層等金屬薄膜的厚度,因?yàn)闆](méi)有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線(xiàn)只有45-75W

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