HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

時(shí)間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：13

國(guó)內(nèi)某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó) HVA 真空閥門 11000 系列，尺寸以 4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,
 

HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格: 

閥門材質(zhì):
- 閥門主體	304 不銹鋼
- 焊接波紋管軸封	AM - 350
閥門密封方式
- 高真空	氟橡膠
- 高真空	銅墊圈 / 氟橡膠
真空:
- 壓力范圍	高真空 1x10-9 mbar, 高真空 1x10-10 mbar
- 漏率	< 2x10-9  mbar l/S
- 差壓關(guān)閉	1 bar ( 任意位置 )
- 開啟前大壓力	≤ 30 mbar
烘烤溫度（不含電磁閥）:
- 彈性體密封閥蓋	150°C
- 金屬密封閥蓋	-開啟溫度：200°C -關(guān)閉值：150°C
- 驅(qū)動(dòng)方式	手動(dòng) 60 °c, 氣動(dòng) 60 °c
機(jī)制
手動(dòng)：	手搖曲柄
電磁閥供電電壓	120 VAC 50 /60 Hz
電磁閥可選電壓	24, 200, 240 VAC 50/60 Hz  或 12, 24 VDC
電磁閥位置指示器,大	115 VAC  或 28 VDC, 20 mA
氣動(dòng)送風(fēng)：	80 psig
使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實(shí)際使用情況決定)
公稱通徑: DN 16 - 800 mm

 

下圖是某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美國(guó) HVA 高真空閥門

 

OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效, ,

對(duì)于生產(chǎn) OLED 鍍膜機(jī)的客戶, 為了節(jié)省抽空時(shí)間和防止基片的污染, 會(huì)選擇在 LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會(huì)在腔室之間增加高真空閥門來(lái)隔離系統(tǒng).

 

伯東美國(guó) HVA 真空閥門已廣泛應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)
 

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上海伯東 : 羅女士 


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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó) HVA?真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用半導(dǎo)體工廠, 太陽(yáng)能光伏, LED, 鍍膜等行業(yè)在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 美國(guó) HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環(huán)

• KRI 離子源應(yīng)用于車載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經(jīng)成為一種常見的汽車配置與功能,?通過(guò)它來(lái)直觀顯示速度、發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車用抬頭顯示?HUD?正在從風(fēng)擋型?W-HUD?逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過(guò)渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

  上海伯東代理美國(guó)?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等！KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污